- 通過微細化及雜質濃度的優化
- 將導通電阻成功降低了約47％
- 應用于太陽能發電的功率調節器
日本知名半導體制造商羅姆株式會社（總部：日本京都市）面向太陽能發電的功率調節器市場，開發出實現了業內頂級低導通電阻的高耐壓功率MOSFET“R5050DNZ0C9”(500V/50A/typ,34mΩmax45mΩ)。
本產品采用散熱性卓越的TO247PLUS封裝，于9月中旬開始提供樣品，并計劃于2011年12月份開始投入量產。
隨著節能趨勢漸行漸強，作為可再生能源的代表，太陽能發電市場規模不斷擴大。其功率調節器領域，正在努力通過電源轉換效率的改善實現節電，因此對實現更低損耗的功率MOSFET的需求不斷高漲。羅姆此前也一直利用多層外延生長方式，為客戶提供多層縱向pn結的超結結構的功率MOSFET，持續為高效化作出了貢獻。但是，由于這種方式的制造工序復雜，因此具有難于微細化和提高生產性能的課題。
此次，羅姆采用縱向p層一次成型的Si深蝕刻技術，通過微細化及雜質濃度的優化，與傳統產品相比，將導通電阻成功降低了約47％。此產品不僅非常適合低導通電阻容易體現出來的轉換器部分，而且與羅姆制造的快速恢復二極管或SiC肖特基勢壘二極管等相組合，還可應用于逆變器。由于可以大幅降低電源轉換時的損耗，因此將會大大有助于提高太陽能發電的效率。另外，為了適用于更多種類的電路方式，羅姆在采用本技術進一步完善高耐壓產品線的同時，還將不斷擴充“PrestoMOS”系列。
羅姆今后也會繼續利用獨創的先進工藝加工技術，不斷推進滿足顧客需求的前瞻性晶體管產品的開發。另外，本產品預計在10月4日～8日在千葉幕張會展中心舉辦的“CEATEC JAPAN2011”的羅姆展臺亮相。屆時歡迎大家光臨羅姆展臺。
